北京匯方圓科技有限公司

我公司專業(yè)生產靶材的生產工藝：通過金屬熔煉，粉末冶金，非金屬粉末方法運用真空熔煉，普通熱壓，冷壓燒結等方法成型，通過鍛造，熱軋或冷軋，再經過熱處理消除型材應力并使之均質化或通過高溫燒結增加其致密性，然后再對處理過的型材進行車，銑，刨，磨等機加工過程，再清洗，烘干，完成最終產品。有時根據需要對某些靶材地面金屬化后進行與無氧銅背板的綁定。最后經過超聲波或者X光等檢測，包裝，出廠。靶材種類：金屬靶材，陶瓷靶材，合金靶材。
半導體關聯(lián)靶材：
電極、布線薄膜：鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等，
儲存器電極薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等
粘附薄膜：鎢靶材，鈦靶材等
電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛靶材等
磁記錄靶材：
垂直磁記錄薄膜：鈷鉻合金靶材等
硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等
薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等
人工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等
光記錄靶材：
相變光盤記錄薄膜：硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等
磁光盤記錄薄膜：鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，鋱鐵鈷合金靶材，氧化鋁靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等
光盤反射薄膜：鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等
光盤保護薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等
顯示靶材：
透明導電薄膜：氧化銦錫靶材，氧化鋅鋁靶材等
電極布線薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材，鉭靶材，鉻靶材，鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉭合金靶材等
電致發(fā)光薄膜：硫化鋅摻錳靶材，硫化鋅摻鋱靶材，硫化鈣摻銪靶材，氧化釔靶材，氧化鉭靶材，鈦酸鋇靶材等
其他應用靶材：
裝飾薄膜：鈦靶材，鋯靶材，鉻靶材，鈦鋁合金靶材，不銹鋼靶材等
低電阻薄膜：鎳鉻合金靶材，鎳鉻硅合金靶材，鎳鉻鋁合金靶材，鎳銅合金靶材等
超導薄膜：釔鋇銅氧靶材，鉍鍶鈣銅氧靶材等
工具鍍薄膜：氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，鉻靶材，鈦靶材，鈦鋁合金靶材，鋯靶材，石墨靶材等
我公司生產的圓形靶材直徑25-250mm矩形靶材最長1500mm其他參數可根據用戶的要求進行加工。我們的愿望就是給客戶最高的產品質量，最優(yōu)的產品的價格，最滿意的服務。真誠期待與您的合作，我們會以實際行動來兌現對您的承諾：為您提供您所需的最優(yōu)質的新材料，在長期合作中實現共贏，攜手共創(chuàng)偉業(yè)。