光亮鍍鎳工藝特點(diǎn):
具有快速光亮及填平能力,沉積速度快
鍍層柔軟,色澤白亮美觀
高均鍍能力,低電位覆蓋能力極強(qiáng)。
操作范圍寬,單一光亮劑添加,容易控制 雜質(zhì)容忍度高
適合作為鍍鉻、青銅、金、銀等金屬之光亮鎳底層。
對(duì)于大部分鍍鎳工藝可直接補(bǔ)充此光亮劑,進(jìn)行轉(zhuǎn)缸
光亮鍍鎳鍍液配制方法:
在預(yù)備槽中注入三分之二的水,加熱水至65-70℃;加入所需的硫酸鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解,加入碳酸鎳或4%的氫氧化鈉溶液,調(diào)整酸堿度為5.2。
加入2.5毫升/升的雙氧水(先用水稀釋)和2.5克/升的活性碳,攪拌數(shù)小時(shí)后靜置整晚,然后將鍍液濾入清潔的電鍍槽中;再將過(guò)濾泵清洗干凈,裝上活性碳備用。
加入所需的硼酸,再用稀硫酸調(diào)整鍍液的PH值至4.0。
用波浪狀的假陰極,以低電流密度(0.1-0.5安培/平方分米)連續(xù)電解12小時(shí)以上,或直到低電位顏色由暗黑色變淺灰色。
最后加入以上的各種添加劑,便可以開(kāi)始。
關(guān)于我們 | 友情鏈接 | 網(wǎng)站地圖 | 聯(lián)系我們 | 最新產(chǎn)品
浙江民營(yíng)企業(yè)網(wǎng) bus1net.com 版權(quán)所有 2002-2010
浙ICP備11047537號(hào)-1