簡(jiǎn)介:
美國(guó)AEPTechnology公司主要從事半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備,MEMS檢測(cè)設(shè)備,光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的生產(chǎn)制造,是表面測(cè)量解決方案行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)者,專(zhuān)門(mén)致力于材料表面形貌測(cè)量與檢測(cè)。
NANOMAP500LS三維形貌儀,既有高精密度和準(zhǔn)確度的局部(Local)SPM掃描,又具備大尺度和高測(cè)量速度;既可用來(lái)獲得樣品表面垂直分辨率高達(dá)0.05nm的三維形態(tài)和形貌,又可以定量地測(cè)量表面粗糙度及關(guān)鍵尺寸,諸如晶粒、膜厚、孔洞深度、長(zhǎng)寬、線(xiàn)粗糙度、面粗糙度等,并計(jì)算關(guān)鍵部位的面積和體積等參數(shù)。樣件無(wú)須專(zhuān)門(mén)處理,在高速掃描狀態(tài)下測(cè)量輪廓范圍可以從1nm到10mm。該儀器的應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋了薄膜/涂層、光學(xué),工業(yè)軋鋼和鋁、紙、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介質(zhì)和半導(dǎo)體等幾乎所有的材料領(lǐng)域。
 
特點(diǎn):
1.    針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)掃描模式,三維掃描范圍從10μmX10μm到500μmX500μm。樣品臺(tái)掃描使用高級(jí)別光學(xué)參考平臺(tái)能使長(zhǎng)程掃描范圍到50mm。
2.    在掃描過(guò)程中結(jié)合彩色光學(xué)照相機(jī)可對(duì)樣品直接觀察。
3.    針尖掃描采用雙光學(xué)傳感器,同時(shí)擁有寬闊測(cè)量動(dòng)態(tài)范圍(最大至500μm)及亞納米級(jí)垂直分辨率(最?。?1nm)
4.    專(zhuān)業(yè)的SPIP分析軟件
5.    軟件設(shè)置恒定微力接觸。
6.    簡(jiǎn)單的2步關(guān)鍵操作,友好的軟件操作界面。
 
產(chǎn)品參數(shù):
1.    縱向分辨率:0.1nm
2.    重復(fù)精度:0.54nm(1σ@1000nm)
3.    接觸力:0.01mg~100mg
4.    縱向量程:500umor1000um
5.    探針掃描范圍:10um~500um
6.    樣品臺(tái)掃面范圍:500um~100mm
7.    采樣速率:100Hz
8.    彩色CCD
9.    視場(chǎng)分辨率:512X512像素
10. 視場(chǎng)放大:4級(jí)調(diào)節(jié)480X480um到1.5X1.5mm
11. 自動(dòng)平臺(tái):150mmX150mm運(yùn)動(dòng)范圍
12. 樣品臺(tái):150mm直徑,200mm可選
13. 探針:標(biāo)注:2um曲率半徑,100nm接觸面積;0.05~25um曲率可選
14. 標(biāo)準(zhǔn)臺(tái)階高度樣品,美國(guó)NIST標(biāo)定:500nm;100um兩塊
 
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