真空蒸鍍?cè)?/b>
              將被鍍薄膜基材(筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在25~500nm,鍍鋁薄膜的寬度為800mm~2000mm。
蒸鍍方法:在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。
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