設(shè)備性能:
半導體激光刻膜機采用進口半導體激光器模塊,和聲光調(diào)制系統(tǒng)、腔內(nèi)倍頻系統(tǒng)、高速數(shù)控X Y工作臺,步進電機或伺服電機驅(qū)動,專用控制軟件,軟件可實現(xiàn)編輯和修改,使用簡單方便,并按實際圖形運行。
本機功能齊全,精度高,速度快和操作簡單方便應(yīng)用面廣,特別適用小幅面薄膜電池的激光刻膜、切片。
應(yīng)用領(lǐng)域:
非晶硅薄膜太陽能電池刻膜、刻線、劃線、刻槽、切割;
其它種類薄膜電池科膜,(a-Si、uc-Si、pc-Si、CdTe、CulnGaSe、TiO2)。
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品型號
產(chǎn)品類型 半導體激光器
激光功率 50W
激光波長 1064nm
重復頻率 200Hz~50KHz
刻膜線寬 100μm
刻膜速度 200mm/s
刻膜精度 ±10μm
定位精度 0.02mmμm
工作臺幅面 300mm×300mm
電源配置 220V 50Hz 2KVA
冷卻方式 一體式(外掛分體式)循環(huán)冷卻水
關(guān)于我們 | 友情鏈接 | 網(wǎng)站地圖 | 聯(lián)系我們 | 最新產(chǎn)品
浙江民營企業(yè)網(wǎng) bus1net.com 版權(quán)所有 2002-2010
浙ICP備11047537號-1