氧化鈰拋光粉H-500
H500氧化鈰拋光粉
LUMINOX 概 要 SEIMI LUMINOX拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲(wèi)主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生産而成。
H-500氧化鈰拋光粉主要用於精密度要求高的光學(xué)研磨、拋光。H-500氧化鈰拋光粉的原料爲(wèi)碳酸稀土,和用氟碳鈰精礦做的拋光粉比較,具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長(zhǎng)等特點(diǎn)。
用 途 精密度要求高的光學(xué)研磨、拋光。 特 徵 ,切削力大、沈澱凝固少、不易堵塞拋光皮、不發(fā)生劃傷、表面精度高。 産品技術(shù)參數(shù)(參考資料,非保證數(shù)值) 品 種 平均粒徑(μ m) TREO(%) CeO2(%)
H-500 2.0 95 60
※平均粒徑用激光粒度儀測(cè)定。(MICROTRAC PARTICLE SIZE ANALYZER HRA)
※TREO(TOTAL RARE EARTH OXIDE):總氧化稀土含量。
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