太能能薄膜電池檢測-太陽能晶體硅電池片檢測-太陽能光伏光電池-上海光學(xué)儀器廠
上海長方光學(xué)儀器廠開發(fā)了針對光伏產(chǎn)業(yè)的硅片檢測顯微鏡,以滿足日益增長的硅片檢測需要.此顯微鏡可以很清楚地看到硅片的”  金字塔”  的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析服務(wù)http://www.shchfang.com/guipian/gpjs003.htm
晶體硅光電池有單晶硅與多晶硅兩大類,用P型(或n型)硅襯底,通過磷(或硼)擴散形成Pn結(jié)成制作,生產(chǎn)技術(shù)成熟,是光伏市場上的主導(dǎo)產(chǎn)品。采用埋層電極、表面鈍化、強化陷光、密柵工藝、優(yōu)化背電極及接觸電極等技術(shù),提高材料中的載流子收集效率,優(yōu)化抗反肘膜、凹凸表面、高反射背電極等方式,光電轉(zhuǎn)換效率有較大提高。單晶硅光電池面積有限,目前比較大的為  ∮10至  20cm的圓片,年產(chǎn)能力46MW/a。目前主要課題是繼續(xù)擴大產(chǎn)業(yè)規(guī)模,開發(fā)帶狀硅光電池技術(shù),提高材料利用率。國際公認最高效率在AM1.5條件下為24%,空間用高質(zhì)量的效率在AMO條件約為13.5—18%地面用大量生產(chǎn)的在AM1條件下多在11—18%之間。以定向凝固法生長的鑄造多晶硅錠代替#晶硅,可降低成本,但效率較低。優(yōu)化正背電極的銀漿和鋁漿絲網(wǎng)印刷,磨圖拋工藝,千方百計進一步降成本,提高效率,大晶粒多晶硅光電池的轉(zhuǎn)換效率最高達18.6%。
非晶硅光電池http://www.shchfang.com/guipian/gpjs003.htm
      a-Si(非晶硅)光電池一般采用高頻輝光放電方法使硅烷氣體分解沉積而成。由于外解沉積溫度低,可在玻璃、不銹鋼板、陶瓷板、柔性塑料片上沉積約1μm厚的薄膜,易于大面積化(05rn×l.0m),成本較低,多采用p  in結(jié)構(gòu)。為提高效率和改善穩(wěn)定性,有時還制成三層P  in等多層疊層式結(jié)構(gòu),或是插入一些過渡層。其商品化產(chǎn)量連續(xù)增長,年產(chǎn)能力45MW/a,10MW生產(chǎn)線已投入生產(chǎn),全球市場用量每月在1千萬片左右,居薄膜電池首位。發(fā)展集成型a-Si光電池組件,激光切割的使用有效面積達90%以上,小面積轉(zhuǎn)換效率提高到  14.6%,大面積大量生產(chǎn)的為8-10%,疊層結(jié)構(gòu)的最高效率為21%。研發(fā)動向是改善薄膜特性,精確設(shè)計光電池結(jié)構(gòu)和控制各層厚度,改善各層之間界面狀態(tài),以求得高效率和高穩(wěn)定性。
多晶硅光電池
      P-Si(多晶硅,包括微品)光電池沒有光致衰退效應(yīng),材料質(zhì)量有所下降時也不會導(dǎo)致光電池受影響,是國際上正掀起的前沿性研究熱點。在單晶硅襯底上用液相外延制備的p-Si光電池轉(zhuǎn)換效率為15.3%,經(jīng)減薄襯底,加強陷光等加工,可提高到23.7%,用CVD法制備的轉(zhuǎn)換效率約為12.6—l7.3%。采用廉價襯底的p—si薄膜生長方法有PECVD和熱絲法,或?qū)—si:H材料膜進行后退火,達到低溫固相晶化,可分別制出效率9.8%和9.2%的無退化電池。微晶硅薄膜生長與a—si工藝相容,光電性能和穩(wěn)定性很高,研究受到很大重視,但效率僅為7.7%大面積低溫p—si膜與—si組成疊層電池結(jié)構(gòu),是提高比a—S光電池穩(wěn)定性和轉(zhuǎn)換效率的重要途徑,可更充分利用太陽光譜,理論計算表明其效率可在28%
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