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{硅片清洗劑解析}
晶圓清洗劑廣泛用于光伏,電子等行業(yè)的晶圓清洗由于硅片在運(yùn)輸過(guò)程中會(huì)受到污染,表面清潔度不是很高,這對(duì)即將到來(lái)的腐蝕和蝕刻有很大的影響,因此第一步是在晶圓表面進(jìn)行一系列的清潔操作。清潔的一般思路是首先去除表面的有機(jī)污染物,然后溶解氧化膜,因?yàn)檠趸飳颖弧叭旧筒东@”,這將導(dǎo)致外延缺陷然后去除顆粒,金屬等,同時(shí)鈍化硅晶片的表面。
{硅片清洗劑成分分析}
晶圓清洗劑由苛性鉀,緩蝕劑,絡(luò)合劑和助劑組成。試劑級(jí)腐蝕性鉀堿為洗滌液提供皂化堿度高效緩蝕劑,絡(luò)合劑和助劑硅片清洗劑由各種表面活性劑復(fù)配而成。提供堅(jiān)硬的表面強(qiáng)力滲透,協(xié)同成分,充分發(fā)揮各自的性能,對(duì)各種油脂,懸浮液和油性土壤進(jìn)行研磨,乳化,皂化,油污清洗率大于98%,對(duì)金屬離子有很強(qiáng)的絡(luò)合作用和對(duì)于銅和鐵的清潔效果,剝離率為99%或更高。它不含金屬離子,如鈣,鎂,鐵,銅和鉛。它具有良好的環(huán)保性和高度準(zhǔn)確性。
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